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HIPiMS技術的主要應用領域有哪些？
HIPiMS（High-Power Impulse Magnetron Sputtering，高功率脈沖磁控濺射）技術因其獨特的物理和化學特性，在多個工業和科學研究領域有著廣泛的應用。以下是HIPiMS技術的主要應用領域及其具體應用實例：
What are the advantages of PECVD protection technology
PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) is a technique for depositing thin films, widely used in semiconductor manufacturing, solar panel production, display manufacturing, and other fields. Compared with traditional CVD (Chemical Vapor Deposition) technology, PECVD has multiple advantages, especially in terms of protection, as follows:
HiPIMS電源可以沉積氧化物嗎
高功率脈沖磁控濺射（HiPIMS, High Power Impulse Magnetron Sputtering）是一種薄膜沉積技術，其特點是使用高功率脈沖對靶材進行激發，以提高濺射過程的離子化程度和沉積速率。
HIPIMS技術在金屬雙極板涂層中的應用
HIPIMS（High Power Impulse Magnetron Sputtering，高功率脈沖磁控濺射）物理 氣相沉積（PVD）技術，它通過使用高峰值功率和低占空比的脈沖電源來實現材料的濺射。
