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耗散功率竟然能影響銅濺射等離子體的行為！
本文研究了在銅濺射等離子體中耗散功率對其影響的實驗結果。通過光發射光譜技術進行測量，探討了耗散功率對銅濺射等離子體的物理特性和行為的影響。
通過實驗結果發現，耗散功率的增加導致銅濺射等離子體中的電子溫度和密度的增加。此外，還觀察到了濺射過程中的輻射特性和粒子輸運行為的變化。
管道結垢難題有解了！DLC薄膜助力石油行業發展！
在石油行業，人們正在努力提高原油回收效率。例如，注入二氧化碳可以將原油的生產效率提高10%~15%。然而，隨著石油產量的增加，也面臨著更多的挑戰，管道腐蝕是其中之一。對于二氧化碳增強采收率（EOR）技術，生產油水混合物因高壓與二氧化碳過飽和而酸化，
一文讀懂濺射沉積技術
濺射鍍膜是指在真空室中，利用荷能粒子轟擊靶材表面，通過粒子動量傳遞打出靶材中的原子及其它粒子，并使其沉淀在基體上形成薄膜的技術。濺射鍍膜技術具有可實現大面積快速沉積，薄膜與基體結合力好，濺射密度高、針孔少，膜層可控性和重復性好等優點，而且任何物質都可以進行濺射，因而近年來發展迅速，應用廣泛。
HiPIMS：簡單的方法就能調控磁控濺射中的金屬/氣體離子比？
1）磁控濺射：HiPIMS中簡單的脈寬變化，就能調控膜層中的金屬/氣體離子比。
2）常規的磁控靶換成HiPIMS電源就可以達到上述效果。
不平凡的釩靶HiPIMS（放電區直徑約３０ｍｍ放電電流達１４０Ａ）
金屬釩（V）作為一種高熔點的稀有金屬材料，常與鈮、鉭、鎢、鉬并稱為難熔金屬。金屬釩具有耐鹽酸和硫酸的性能，并且耐氣-鹽-水腐蝕的性能要比大多數不銹鋼好。在某些特殊的重要場合，金屬V薄膜常被用來作為高溫隔離防護涂層，因此開展V靶HIPIMS放電特性方面的研究工作具有重要的意義。
